介紹
     自20世（shì）紀（jì）以來，合金一直被（bèi）用於骨科醫學（xué），並因其力學和物理（lǐ）性能而被用於牙科醫學（xué）。另一方麵，由於經濟原因，珍貴的合金（如金合金）很少被使用，而（ér）非珍貴的合金在（zài）牙科領域（yù）的使（shǐ）用逐漸增加。非珍貴合金的主要優點是表麵被動氧化層，在（zài）口腔內提供生物相容性和耐腐蝕性[1]。口腔的酸性介質和唾液成分的變化影響口腔[2]中牙科合金表麵的行為。
     當材料作為修複結構[3,4]引入口腔時，唾液中釋放的產物（wù）代（dài）表了腐蝕（shí）問題。用於鑄（zhù）造修複零件的商業牙科合金具有較高的生物相容性（xìng）性能[5]。
     cocr基合金因（yīn）其耐腐蝕性和與牙（yá）科陶瓷作為美（měi）學組件[6]的兼容性而被用於（yú）牙科領域。一開始，cocr基合金含有鉬（鉬），為鑄（zhù）造提供了良好（hǎo）的材料流（liú）動性，但隨著時間的推移，它被取（qǔ）代或（huò）與W（狼屑/鎢）結合，在鑄造合金後增加了非（fēi）常好的防（fáng）腐性能[7-9]。
    根據文（wén）獻，人工唾液(AS)可以用林格爾（ěr）溶液取代，用於測試各種合金的腐蝕行為。可在室溫下（xià）保存，pH值為（wéi）6.8。該解（jiě）決方（fāng）案也用於實（shí）驗（yàn）室測試產品，也用於藥物治療[10]。本研究的目（mù）的（de）是測試人工唾液中五（wǔ）種商業cocr基合金(W和Mo)氧化後的電化學行為和（hé）表麵表征。
   
     材料和方法
     五種商用cocr基合金的成分見表1。從牙科市場購買的基於cocr的合金被轉化為盒式樣品盤，阿（ā）裏膜（mó）(A)為0502cm²，圓柱形支架（jià）進行電接觸。表1中列為0-S的合金（占0%wt的合金樣品。W)，8-S(鑄造合金（jīn）樣品占8%。W)，10-S(鑄造合金樣品占10%。W)，15-S(鑄造合金樣品占15%。W)和16,4-S(鑄造合金樣品占16.4%。對W)進行分析。將罐式樣品浸入林格溶液中，組成為氯化鈉8.6g、0、33g氯化鈣、0、3g氯化鉀、平衡水。
 
表1：不同Mo和（hé）W含量的CoCr基合金的化學成分（wt%）。

 
     這些（xiē）碎片是作（zuò）為電化學電池中作為工作電極(WE)進行電化學行為測試的。分析采用（yòng）電化學實驗室VoltalabPGZ100進行，結果采用伏爾體4專用（yòng）軟件進行處理。製（zhì）備了cocr基合金工作電（diàn）極作為鑄造盤。此（cǐ）外，我們（men）在23ºC處使用了（le）參考電極(RE-Ag/AgCl)、反電極（jí）(CE-Pt)和電解液(硫酸0,1N)。該單元格（圖1）與VoltalabPGZ100連接（jiē）。

圖1：含20mlRinger溶液（yè）(a)的電化學電池、電極（jí）插入的製備(b)、工作過程（chéng）中的電化學電池(c)。
 
      在（zài）人工唾液中對CoCrMo合金(CoCrMoS)、CoCrMoW合金（8S、10S）和CoCrW合金（15S、16、4S）進行了測試。第一次測試是為（wéi）了（le）測量（liàng）合金在電解液體中（zhōng）形成表麵無源層的趨勢（shì），在開路（lù）電位(OCP)中，作為防腐反應。測量開路電（diàn）位120分鍾，評估曲（qǔ）線方麵和電位達到（dào）0mV值的趨勢。
 
     其次，對鑄式樣品（pǐn）進行噴砂，進行機械加工，得到鏡麵（miàn）。樣品表（biǎo）麵在P300(IvoclarCo.)可編程的（de）具有真空設置容量的烘箱中被熱（rè）氧化。然後，製備殼式合金樣品進（jìn）行掃描電子顯微鏡(SEM)。
     
      結果（guǒ）
     將CoCrW合（hé）金和CoCrMoW合（hé）金的CoCrMo合金開路電位曲線與其（qí）他兩條交叉（chā）電流曲線進行了比較（圖2）。
圖2：5種W和Mo的（de）牙科商業（yè）cocr基合金的開路電（diàn）位測量。
 
     所（suǒ）有cocr基合金的開路電位曲線範圍從負電位到走向正值（zhí）的趨勢。每種合金在120分鍾內的電勢的（de）變化顯示（shì）出線性和抗腐蝕趨勢。在120分鍾內施加的電勢(mV)值如表2所示。
 
表2：CoCr合金表麵的電勢。

 
      在捕獲的掃描電鏡圖像中可以看到氧化物被動層形（xíng）成的（de）不同方麵（圖3-5）。掃描（miáo）電鏡圖像揭示了三種不同CoCr基（jī）合金氧化後產生的氧化物被動層的密度和（hé）形貌。
圖3：掃描（miáo）電鏡圖像：0-S合金上的氧化（huà）物層。a.CoCrMo–0%wt.W(x20000)；b.CoCrMo–0%wt.W (x50000);
圖4：掃描電鏡圖像：10-S合金上的氧化（huà）物層。a.CoCrMoW–10%wt.W(x20000)；b.CoCrMoW–10%wt.W (x50000);
 
圖5：掃描電鏡圖像：15-S合金上的氧化物層。a.CoCrW–15%wt.W(x20000)；b.CoCrW–15%wt.W (x50000);